南京扫描分析仪牌具店,杭州手机扫描分析仪牌具公司

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南京扫描分析仪牌具店的张老师本人编辑真正的牌艺是需要你亲自来观摩揣摩的,一次的会晤将成为永久的朋友,缘分可遇不可求,抓住机遇。工业硅是一种重要的工业原料,广泛应用于冶金、化工、电子等行业。其中杂质含量的存在严重影响工业硅的质量,如其通常按金属硅成分所含的铁、铝、钙三种次要杂质的含量来分类。依据国标GB/T 2881-2014 工业硅要求,对其惯例元素Fe、Ca、Al及微量元素B、P、Ti做出了要求。本文采用电感耦合等离子体原子发射光谱法测定工业硅中杂质,办法快捷复杂后果精确,适用于工业硅中B、Al、Ca、Fe、P、Ti的含量测定。
运用仪器: Plasma 1000 电感耦合等离子体发射光谱仪
Plasma 1000 电感耦合等离子体发射光谱仪
仪器特点:
优秀的光学系统,先进的控制系统,保证峰位定位精确,信背比优秀
RF输出功率的范围750-1500W,输出功率稳定性小于0.1%;
测量范围宽,微量到常量的剖析静态线性范围5—6个数量级。
Plasma 1000任务条件
载气流量(L/min) 辅佐气流量(L/min) 冷却气流量(L/min)
0.6 2 15
RF功率(W) 光栅刻线 蠕动泵转速(rpm)
1250 3600条/mm 20
实验办法
称取一定量工业硅样品,参加一定比例的混酸,运用微波消解仪消解。待样品冷却后取出,定容至100ml容量瓶待测。
剖析谱线的选择


表2 Plasma 1000谱线选择
元素 B Al Ca
谱线(nm) 249.678 396.152 396.847
元素 Fe P Ti
谱线(nm) 238.204 213.618 336.122
规范曲线绘制
B、Al、Ca、Fe、P、Ti标准溶液(国度钢铁资料测试中心,1000μg/mL)
配制曲线浓度如表3 ,线性相关系数大于0.999。

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