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>> 仪器特点
1.剖析流程全自动化控制,完成软件点火、气路智能控制功用
2.输出功率自动婚配调谐,功率参数顺序设定;
3. 优秀的光学系统,先进的控制系统,保证峰位定位精确,信背比优秀
4.极小的基体效应;
5.测量范围宽, 微量到常量的剖析,静态线性范围5—6个数量级;
6.检出限低,大多数元素的检出限可达ppb级;
7.良好的测量精度,稳定性绝对标准偏差RSD≤1.5%(5ppm),优于国度A级规范(JJG768-2005);
8.功能强大、敌对的人机界面剖析软件,可在测定进程中,停止数据处理,办法编制和后果剖析,是真正的多任务任务软件;该软件数据处理功能强大,提供了多种办法,如内标校正、IECS和QC监测功用等,可取得的背景扣除点以消弭搅扰;对输入数据可直接打印或自动生成Excel格式的后果报告.
>> 任务环境
1.仪器室内无腐蚀性气体;空中的尘埃粒子须坚持
2.室内温度18℃~26℃;室温应到达波动形态,温度变化率应小于1℃/h,相对湿度不大于70%
>>尺寸和分量
1550mm(长)*759mm(宽)*1340mm(高)
分量: 240公斤
工业硅是一种重要的工业原料,广泛应用于冶金、化工、电子等行业。其中杂质含量的存在严重影响工业硅的质量,如其通常按金属硅成分所含的铁、铝、钙三种次要杂质的含量来分类。依据国标GB/T 2881-2014 工业硅要求,对其惯例元素Fe、Ca、Al及微量元素B、P、Ti做出了要求。本文采用电感耦合等离子体原子发射光谱法测定工业硅中杂质,办法快捷复杂后果精确,适用于工业硅中B、Al、Ca、Fe、P、Ti的含量测定。
运用仪器: Plasma 1000 电感耦合等离子体发射光谱仪
Plasma 1000 电感耦合等离子体发射光谱仪
仪器特点:
优秀的光学系统,先进的控制系统,保证峰位定位精确,信背比优秀
RF输出功率的范围750-1500W,输出功率稳定性小于0.1%;
测量范围宽,微量到常量的剖析静态线性范围5—6个数量级。
Plasma 1000任务条件
载气流量(L/min) 辅佐气流量(L/min) 冷却气流量(L/min)
0.6 2 15
RF功率(W) 光栅刻线 蠕动泵转速(rpm)
1250 3600条/mm 20
实验办法
称取一定量工业硅样品,参加一定比例的混酸,运用微波消解仪消解。待样品冷却后取出,定容至100ml容量瓶待测。
剖析谱线的选择
表2 Plasma 1000谱线选择
元素 B Al Ca
谱线(nm) 249.678 396.152 396.847
元素 Fe P Ti
谱线(nm) 238.204 213.618 336.122
规范曲线绘制
B、Al、Ca、Fe、P、Ti标准溶液(国度钢铁资料测试中心,1000μg/mL)
配制曲线浓度如表3 ,线性相关系数大于0.999。

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